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半導體槽式濕法刻蝕設備晶圓片清洗

半導體槽式濕法刻蝕設備晶圓片清洗

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詳細介紹

產品:實心錐噴嘴


應用: 噴嘴安裝于槽式濕法刻蝕設備里,通過配合不同化學藥液,有效去除晶圓表面顆粒、有機物和金屬離子,應用于晶圓制造、MEMS制造,以及功率器件制造領域。

 

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